인텔이 1월 24일 오하이오주 컬럼버스시에 200억달러(원화 약 23조 8천억원)을 투자하여 신규 반도체 팬 2곳을 건설한다고 밝혔습니다.
올해 말 착공을 시작하여 2025년 부터 양산에 들어가게 되며 이 생산 부지는 약 122만평 규모로 최대 팹 8곳 까지 확대할 수 있는 면적이라고 합니다.
인텔은 향후 10년간 투자금액에 최대 1000억달러까지 증가할수 있다고 언급했습니다.
https://www.joongang.co.kr/article/25043124#home
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