12월 18일 일본 반도체 기업인 라피더스가 반도체 양산을 위한 최첨단 장비인 EUV 리소그래피 장비를 훗카이도에 건설중인

반도체 제조팹에 설치를 시작했다고 합니다. 

ASML에서 공급한 EUV 리소그래피 장비는 2nm GAA 반도체 제조를 위한 핵심 장비로 훗카이도 IIM-1 반도체 팹에서는 2025년 4월 부터

파일럿 생산이 시작된다고 합니다. 

https://www.rapidus.inc/en/news_topics/information/rapidus-begins-installation-of-japans-first-euv-lithography-machinery-for-semiconductor-mass-production-en/